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供应磁控溅射平面阴极靶

  • 发布时间:2015年10月12日
  • 有 效 期:2016年04月12日
详细说明

    平面溅射阴极

特点:

1、 采用独特的磁路设计,突破传统模式,更符合磁控溅射的理念。

2、 采用独特的结构设计,可以内置、外置,更符合使用要求。

3、 更高的溅射率,离子密度更强。

4、 更高的利用率,高达40%以上。

5、 尺寸范围:300-3000mm区间,保持一致的均匀性

6、使用范围:如TI、AL、NI、CR、AZO、ITO等

应用领域:

半导体、MEMS、TFT、ITO、LOW-E玻璃、硬质涂层、装饰性膜层

 
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